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《大话集成电路》3.4-刻蚀技术：光刻之后，芯片生产的第二道技术坎

上传时间：2022-06-24 10:13

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视频简介：在集成电路的制造过程中，一共有三个同等重要的环节，分别是光刻、刻蚀和薄膜淀积。相比于光刻，刻蚀的知名度就要小了很多，但它也是一道技术含量很高的加工步骤，不如来一起了解一下吧。

评论

八年幼儿园博伺厚

太傅级

大力发展高科技光刻、刻蚀和薄膜淀积技术！

2022-06-24

科普62b145e224a0a

秀才级

好

2022-06-24

Ljh春暖花开

少师级

大力发展高科技光刻、刻蚀和薄膜淀积技术！

2022-06-24

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