态密度是固体物理中的重要概念,即能量介于E1~E+△E之间的量子态数目△Z与能量差△E之比,即单位频率间隔之内的模数。N-E关系反映出固体中电子能态的结构,固体中的性质如电子比热,顺磁磁化率等与之关系密切。在技术上,可利用X射线发射光谱方法测定态密度。
简介对自由电子而言,N(E)=4πVEl/2(2m)3/2/h3,式中V为晶体体积,h为普朗克常数,m为电子质量。
相关公式(1)对于晶体中的准自由电子,具有有效质量m*,导带底的等能面是球形等能面,导带底附近的能态密度函数为Nc(E)=(1/2π2) *(2m*/ħ2)^(3/2)* (E-Ec)^(1/2) ∝ (E-Ec)1/2 。
(2)对于实际Si和Ge的导带底,因是旋转椭球等能面 (s个),并且存在有纵向有效质量ml*和横向有效质量mt*,则根据
E(k) = Ec + (ħ2/2) { [(k12+k22) / mt*] + [k32/ml*] } ,同样可求得以上形式的Nc(E),但其中的有效质量m*应该代之为所谓导带底电子的状态密度有效质量 mdn* = (s2ml mt2)1/3。对于价带顶附近空穴的能态密度函数,类似地可求得为 Nv(E) = (1/2π2) (2m*/ ħ2)3/2 (Ev-E)1/2 ∝ (Ev-E)1/2 ,其中价带顶空穴的状态密度有效质量为 mdp* = [ (m*)l3/2 + (m*)h3/2 ]2/3,(m*)l和(m*)h分别是轻空穴和重空穴的有效质量。对于Si:s=6, mdn=1.08mo;mdp=0.59mo 。对于Ge:s=4, mdv=0.56mo;mdp=0.37mo。总之,对于三维自由电子,能态密度函数与能量的平方根成正比。但是,对于二维自由电子,能态密度函数将与能量无关。
简要特点1) 在整个能量区间之内分布较为平均、没有局域尖峰的DOS,对应的是类sp带,表明电子的非局域化性质很强。相反,对于一般的过渡金属而言,d轨道的DOS一般是一个很大的尖峰,说明d电子相对比较局域,相应的能带也比较窄。
2) 从DOS图也可分析能隙特性:若费米能级处于DOS值为零的区间中,说明该体系是半导体或绝缘体;若有分波DOS跨过费米能级,则该体系是金属。此外,可以画出分波(PDOS)和局域(LDOS)两种态密度,更加细致的研究在各点处的分波成键情况。
3) 从DOS图中还可引入"赝能隙"(pseudogap)的概念。也即在费米能级两侧分别有两个尖峰。而两个尖峰之间的DOS并不为零。赝能隙直接反映了该体系成键的共价性的强弱:越宽,说明共价性越强。如果分析的是局域态密度(LDOS),那么赝能隙反映的则是相邻两个原子成键的强弱:赝能隙越宽,说明两个原子成键越强。上述分析的理论基础可从紧束缚理论出发得到解释:实际上,可以认为赝能隙的宽度直接和Hamiltonian矩阵的非对角元相关,彼此间成单调递增的函数关系。
4) 对于自旋极化的体系,与能带分析类似,也应该将majority spin和minority spin分别画出,若费米能级与majority的DOS相交而处于minority的DOS的能隙之中,可以说明该体系的自旋极化。
5) 考虑LDOS,如果相邻原子的LDOS在同一个能量上同时出现了尖峰,则我们将其称之为杂化峰(hybridized peak),这个概念直观地向我们展示了相邻原子之间的作用强弱。
本词条内容贡献者为:
韩拯 - 研究员 - 中国科学院金属研究所