氧化镓的别名是三氧化二镓,氧化镓(Ga2O3)是一种宽禁带半导体,Eg=4.9eV,其导电性能和发光特性长期以来一直引起人们的注意。Ga2O3是一种透明的氧化物半导体材料,在光电子器件方面有广阔的应用前景 ,被用作于Ga基半导体材料的绝缘层,以及紫外线滤光片。它还可以用作O2化学探测器。
物质概况
中文同义词:三氧化二镓;氧化镓(Ⅲ);氧化镓, 99.999% (METALS BASIS);氧化镓, PURATRONIC|R, 99.999% (METALS BASIS);氧化镓, 99.995% (METALS BASIS);氧化镓, 99.99% (METALS BASIS);氧化镓 (METALS BASIS);
英文同义词:GALLIUM SESQUIOXIDE;GALLIUM OXIDE;GALLIUM(III) OXIDE;GALLIUM(+3)OXIDE;Digallium trioxide;digalliumtrioxide;Ga2-O3;Gallia;
CAS号:12024-21-4;
EINECS号:234-691-7;
相关类别:镓金属和陶瓷科学;氧化物;催化和无机化学;化学合成;镓;金属氧化物;
Mol文件:12024-21-4.mol1
同分异构体氧化镓(III),即三氧化二镓,是镓的氧化物中最稳定的。在空气中加热金属镓使之氧化,或在200-250℃时焙烧硝酸镓、氢氧化镓以及某些镓的化合物都可形成Ga2O3。
Ga2O3 有五种同分异构体:α,β,γ,δ,ε,其中最稳定的是β-异构体,当加热至1000℃以上或水热条件(即湿法)加热至300℃以上时,所有其他的异构体都被转换为β-异构体。可采用各自不同的方法制得各种纯的异构体。
把金属镓在空气中加热至420~440℃;焙烧硝酸盐使之分解或加热氢氧化镓至500℃等都可制得α-Ga2O3。
快速加热氢氧化物凝胶至400~500℃可值得γ-Ga2O3,γ-Ga2O3具有缺陷的尖晶石结构。
在250℃加热硝酸镓然后在约200℃浸溃12小时,可制得δ-Ga2O3,它类似于In2O3、Tl2O3、Mn2O3和Ln2O3的C-结构。
在550℃短暂加热(约30分钟)δ-Ga2O3可制得ε-Ga2O3。
将硝酸盐、醋酸盐、草酸盐或其他镓的化合物以及Ga2O3的任意其他异构体加热至1000℃以上均可分解或转化为β-Ga2O3。1
物理性质白色三角形的结晶颗粒。不溶于水。微溶于热酸或碱溶液。熔点1900℃(在600℃时转化为β型)。
易溶于碱金属氢氧化物和稀无机酸。
有α,β两种变体。α型为白色菱形六面体。
物性数据:
性状:α-Ga2O3为六方晶型,β-Ga2O3属于单斜晶型。
熔点(ºC):1740
溶解性:不溶于水。微溶于热酸或碱溶液。1
化学性质Ga2O3能与氟气反应,生成GaF3,Ga2O3溶于50%的HF中得到产物GaF3·3H2O。Ga2O3能溶于微热的稀硝酸、稀盐酸和稀硫酸中。经过灼烧的Ga2O3不溶于这些酸甚至于浓硝酸,也不溶于强碱的水溶液中,只能通过NaOH、KOH或KHSO4和K2S2O7一起熔融才能使它溶解。与过量两倍的NH4Cl在250℃一起熔融生成氯化镓。在红热时,Ga2O3与石英反应形成玻璃体,但冷却时没有新化合物生成。红热时也能和上釉的瓷坩埚发生反应。
在加热的条件下,Ga2O3能与许多金属氧化物发生反应。现已测定了碱金属氧化物反应(高于400℃)所得到的镓酸盐M(I)GaO2的晶体结构,与Al2O3和Ln2O3一样,它与MgO、ZnO、CoO、NiO和CuO反应能形成尖晶石型的M(II)Ga2O4。与三价金属氧化物反应的产物M(III)GaO3通常有钙钛矿或石榴石型结构(如镧系镓酸盐LnGaO3)。而且有更为复杂的三元氧化物。人们研究过有关用于激光、磷光和发光材料的镓的混合氧化物。认为镓酸盐的发光性质归之于氧的空缺。因为FeGaO3有令人感兴趣的电磁性质(即压电性和铁磁性),所以它的合成、稳定性和晶体结构已被人们广泛地研究。
Ga2-xFexO3(x≈1)属于正交晶体,晶胞参数是:a=8.75A,b=9.40A,c=5.07A,配位数为8,熔融温度是1750℃,密度是5.53g/cm3。NiO·Fe2-xGaxO3的磁性和晶体结构也被研究过。
生态数据通常对水体是稍微有害的,不要将未稀释或大量产品接触地下水,水道或污水系统,未经政府许可勿将材料排入周围环境。1
化学数据1、氢键供体数量:0
2、氢键受体数量:3
3、可旋转化学键数量:0
4、拓扑分子极性表面积(TPSA):43.4
5、重原子数量:5
6、表面电荷:0
7、复杂度:34.2
8、同位素原子数量:0
9、确定原子立构中心数量: 0
10、不确定原子立构中心数量:0
11、确定化学键立构中心数量:0
12、不确定化学键立构中心数量:0
13、共价键单元数量:11
制备1.向三氯化镓GaCl3的热水溶液中加NaHCO3的高浓热水溶液,煮沸到镓的氢氧化物全部沉淀出来为止。用热水洗涤沉淀至没有Cl-为止,在600℃以上煅烧则得到β-Ga2O3。残留NH4Cl时,在250℃就和Ga2O3反应,生成挥发性GaCl3。
2.这是高纯Ga2O3的制法。以高纯金属Ga为阳极,溶解于5%~20%H2SO4溶液里,向溶液加氨水,冷却,将Ga(NH4)(SO4)2反复结晶,在105℃干燥,在过量氧的条件下在800℃灼烧2h,则得到纯度为99.99%~99.9999%的产品。
3.称取1kg99.9999%的高纯镓放入三颈烧瓶中,加入高纯硝酸,使镓全部溶解,然后过滤,滤液倒入三颈烧瓶中,移至电炉上蒸发(在通风橱中进行),浓缩到接近结晶时,将溶液移置于大号蒸发皿中蒸发至干。将蒸干的Ga(NO3)3放在马弗炉中进行灼烧,温度控制在550℃,灼烧5h,待冷却后取出成品,得1.2kg高纯氧化镓。1
应用用作高纯分析试剂、用于电子工业半导体材料制备。2
注意事项安全说明:S24/25:防止皮肤和眼睛接触;
类别:有毒物品;
毒性分级:低毒;
急性毒性:口服-小鼠LD50: 10000 毫克/公斤; 腹腔-小鼠LD50: 5000 毫克/公斤;
储运特性:库房通风低温干燥;
灭火剂:干粉、泡沫、砂土、二氧化碳, 雾状水;
职业标准:STEL 3 毫克/立方米;
贮存方法:贮存于阴凉、干燥的库房内。2
急救措施急救:
吸入: 如果吸入,请将患者移到新鲜空气处。
皮肤接触: 脱去污染的衣着,用肥皂水和清水彻底冲洗皮肤。如有不适感,就医。
眼晴接触: 分开眼睑,用流动清水或生理盐水冲洗。立即就医。
食入: 漱口,禁止催吐。立即就医。
对保护施救者的忠告:将患者转移到安全的场所。咨询医生。出示此化学品安全技术说明书给到现场的医生看。2
消防措施灭火剂:用水雾、干粉、泡沫或二氧化碳灭火剂灭火。避免使用直流水灭火,直流水可能导致可燃性液体的飞溅,使火势扩散。
灭火注意事项及防护措施:消防人员须佩戴携气式呼吸器,穿全身消防服,在上风向灭火。尽可能将容器从火场移至空旷处。处在火场中的容器若已变色或从安全泄压装置中发出声音,必须马上撤离。隔离事故现场,禁止无关人员进入。收容和处理消防水,防止污染环境。2
泄露应急处理作业人员防护措施、防护装备和应急处置程序:建议应急处理人员戴携气式呼吸器,穿防静电服,戴橡胶耐油手套。禁止接触或跨越泄漏物。作业时使用的所有设备应接地。尽可能切断泄漏源。消除所有点火源。根据液体流动、蒸汽或粉尘扩散的影响区域划定警戒区,无关人员从侧风、上风向撤离至安全区。
环境保护措施:收容泄漏物,避免污染环境。防止泄漏物进入下水道、地表水和地下水。
泄漏化学品的收容、清除方法及所使用的处置材料:
小量泄漏:尽可能将泄漏液体收集在可密闭的容器中。用沙土、活性炭或其它惰性材料吸收,并转移至安全场所。禁止冲入下水道。
大量泄漏:构筑围堤或挖坑收容。封闭排水管道。用泡沫覆盖,抑制蒸发。用防爆泵转移至槽车或专用收集器内,回收或运至废物处理场所处置。2
操作处置与储存操作注意事项:操作人员应经过专门培训,严格遵守操作规程。操作处置应在具备局部通风或全面通风换气设施的场所进行。避免眼和皮肤的接触,避免吸入蒸汽。远离火种、热源,工作场所严禁吸烟。使用防爆型的通风系统和设备。如需罐装,应控制流速,且有接地装置,防止静电积聚。避免与氧化剂等禁配物接触。搬运时要轻装轻卸,防止包装及容器损坏。倒空的容器可能残留有害物。使用后洗手,禁止在工作场所进饮食。配备相应品种和数量的消防器材及泄漏应急处理设备。
储存注意事项:储存于阴凉、通风的库房。库温不宜超过37°C。应与氧化剂、食用化学品分开存放,切忌混储。保持容器密封。远离火种、热源。库房必须安装避雷设备。排风系统应设有导除静电的接地装置。采用防爆型照明、通风设置。禁止使用易产生火花的设备和工具。储区应备有泄漏应急处理设备和合适的收容材料。2
本词条内容贡献者为:
耿彩芳 - 副教授 - 中国矿业大学